-
Hoë-suiwerheid Alumina Keramiek Robotarm vir Waferhantering
St.Cera se alumina-keramiek-robotarm is presisie-ontwerp van 99.8% hoë-suiwerheid Al₂O₃ (alumina). Dit kombineer uitsonderlike buigsterkte (361 MPa), hoë hardheid (16 GPa) en lae digtheid (3.93 g/cm³), wat lei tot 'n liggewig maar stewige arm vir halfgeleier-waferoordrag. Die materiaal se termiese uitbreidingskoëffisiënt (7.2×10⁻⁶/°C) pas nougeset by silikon, wat termiese wanverhouding tydens verwerking tot die minimum beperk.
-
Bernoulli Keramiese Eindeffektor — Kontaklose Waferhantering vir Dun & Bros Wafers
St.Cera se Bernoulli-keramiek-eindeffektor gebruik aërodinamiese hefkrag om wafers sonder fisiese kontak te hanteer. Vervaardig van hoë-suiwerheid 99.8% alumina (Al₂O₃) of silikonkarbied (SiC), beskik dit oor presisie-bewerkte spuitstukke wat drukgas uitwerp om 'n dun lugfilm tussen die eindeffektor en die wafer te skep. Hierdie kontaklose beginsel elimineer agterkantkontaminasie, randskyfies en oppervlakskade, wat dit ideaal maak vir dun (≤100 μm), brose of kromgetrekte wafers. Die keramiek-substraat bied hoë buigsterkte (361 MPa vir Al₂O₃; tot 550–600 MPa vir SiC), lae massa en uitstekende dimensionele stabiliteit, wat herhaalbare posisionering in hoëspoed-wafer-oordragrobotte verseker.
-
Teflonbedekte Keramiese Eindeffektor – Nie-kleefoppervlak vir sensitiewe wafelhantering
St.Cera se Teflon (PTFE)-bedekte keramiek-eindeffektor kombineer 'n hoësterkte-alumina-substraat met 'n eenvormige, lae-wrywing PTFE-laag (dikte 15–30 μm). Die laag bied 'n uiters lae wrywingskoëffisiënt (≤0.1), uitstekende chemiese weerstand en kleefvrye eienskappe, wat wafer-adhesie voorkom en agterkant-kontaminasie uitskakel. Die onderliggende keramiek-substraat (99.8% Al₂O₃) bied hoë buigsterkte (361–1000 MPa), slytasieweerstand en termiese stabiliteit tot 260°C (laaglimiet). Hierdie eindeffektor is ideaal vir die hantering van delikate, dun of klewerige wafers (bv. na fotoresist-bedekking of chemiese prosesse).
